Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium
Type doc. :
Livre
Langue :
Français
Auteur(s) :
Editeur(s) :
Année d'édition :
2011
ISBN :
9782746231306
| N° Bulletin | Date / Année de parution | Titre N° Spécial | Sommaire |
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| N° d'Exemplaire / inventaire | Cote | Localisation | Type de Support | Type de Prêt | Statut | Date de Restitution Prévue | Réservation |
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| 049710 | ELT397 | BIB-TIZI OUZOU / Mag du 3ème | Papier | externe | disponible | ||
| 049711 | ELT397 | BIB-TIZI OUZOU / Mag du 3ème | Papier | externe | disponible |
Baudrant, A. (2011). Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium . Lavoisier;