Mécanismes d'oxydation des films Si-LPCVD fortement dopés au bore
Type doc. :
Thèses / mémoires
Langue :
Français
Auteur(s) :
Année de soutenance:
1988
| N° Bulletin | Date / Année de parution | Titre N° Spécial | Sommaire |
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| N° d'Exemplaire / inventaire | Cote | Localisation | Type de Support | Type de Prêt | Statut | Date de Restitution Prévue | Réservation |
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| 700EL/1988/02 | 700EL/1988/02 | BIB-TIZI OUZOU / Mag du RDC | interne | disponible |
Boukezzata, M. & Bielle-Daspet, D. (1988). Mécanismes d'oxydation des films Si-LPCVD fortement dopés au bore (Doctorat) . Toulouse.